国产光刻机年内上市！
发布时间：2023-08-01 13:05:40
来源：韭研公社
【资料图】
据媒体报道，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。
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